第414章 你到底为什么回国？

第414章 你到底为什么回国？ (第1/2页)

徐佑知道，黄思白最近一直在魔都，想要来蓟京大学一趟，其实还是挺不容易的。
　　
　　“最近还好，也正好要回总公司一趟，所以就过来找您了。”黄思白笑着说道。
　　
　　听黄思白这么说，徐佑总算没有什么心理负担了。
　　
　　简单的询问了几句后，黄思白开始详细的给徐佑讲解起了，自己最近的这个成果。
　　
　　“徐教授，最近我做的研究，是有关EUV光刻机的三维掩模成像技术。”
　　
　　“三维掩模成型技术？”徐佑问道。
　　
　　“是的，徐教授。三维掩模成像技术，对EUV光刻成像质量有很大的影响。三维掩模成像模型，是进行EUV光刻成像仿真的基础。”
　　
　　简单的说，光刻机的工作原理，与照相机有一些类似。
　　
　　光刻机发出的光，通过具有图形的光罩，能够对涂有光刻胶的薄片曝光。
　　
　　光刻胶见光后会发生性质变化，从而使光罩上的图形复印到薄片上。
　　
　　这样一来，薄片就具有电子线路图的作用了。
　　
　　只是，与照相机的二维成像不同，光刻机光刻出的电子元件和电路图，是三维的成像。
　　
　　这就是黄思白这项成果的重要意义。
　　
　　听着黄思白的讲解，徐佑越发的兴奋起来。
　　
　　“黄工，你带相关的资料过来了吗？可不可以让我看一下更详细的内容？”
　　
　　“嗯，徐教授，我带了，等我开一下电脑。”
　　
　　黄思白也是第一次和徐佑进行学术上的交流，显得有些紧张和激动。
　　
　　黄思白没有想到，徐佑对于这些不属于他领域上的学术问题，竟然会问得这么仔细。
　　
　　徐佑的专业程度，甚至并不亚于EUV光刻机项目组的那些科研人员。
　　
　　“黄工，这里掩模衍射谱的计算，是通过傅里叶变换得到的吧？”徐佑指着资料中的一处问道。
　　
　　“是的，徐教授，当掩模厚度较小，掩模图形尺寸较大时，掩模衍射谱可以采用薄掩模模型计算。通过傅里叶变换，得到掩模Kirchhoff远场衍射的结果……”
　　
　　“黄工，这里是不是用到了厄米对称性的性质？”
　　
　　“没错。为了进一步提高Hopkins成像模型的计算效率，可以根据矩阵的厄米对称性对其进行奇异值分解，并将这个公式截断……”
　　
　　为了解答徐佑提出的一个个问题，黄思白已经累得满头大汗了。
　　
　　这种劳累感，并不是因为体力的消耗，而是脑力的大量消耗。
　　
　　而徐佑却非常享受这种学习的过程，脸上满是轻松和喜悦的神色。
　　
　　现在的徐佑，根本不需要进入到深度学习状态，就可以轻松的解决各种科研问题。
　　
　　深度学习状态，对于徐佑来说，只是相当于一个加速器而已。
　　
　　这时，黄思白擦了擦额头上的汗水，尝试着问道：
　　
　　“徐教授，我可以了解一些龙芯G1的资料吗？这对我们的光刻机研究，会有一定帮助的。”
　　
　　徐佑闻言一愣道：“龙芯G1？这款芯片并没有使用到EUV光刻机的技术啊。”
　　
　　黄思白连忙摆了摆手道：“没有没有，就是我们下一代的芯片，应该会基于龙芯G1进行改良嘛。多了解一下这些芯片的信息，对之后芯片加工技术的研发肯定是有好处的。”
　　
　　

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